M2全谱直读光谱仪 M2 全新立式全谱光谱采用标准的设计和制造工艺技术,采用全数字技术,替代庞大的光电倍增管(PMT)模拟技术,采用真空光学室设计及全数字激发光源、CCD检测器,高速数据读出系统,使仪器具有高的性能、低的检出线、长期的稳定性和重复性。适用于金属制造业、加工业及金属冶炼业用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发的主要设备之一。 M系列全谱直读光谱仪采用标准的设计和制造工艺技术,全数字化及互联网技术结合,运用高分辩率CMOS检测器,精密设计的氩气吹扫系统,使仪器具有更高的性能、更低的成本、以及较具竟争力的价格。 M2可应用于多种材料的分析。 01 小巧、轻便、精致、可靠的仪器结构,具有同类型直读光谱仪优异的分析数据。 02 **小设计的光学室结构及优化设计的氩气吹扫系统,保证紫外区元素谱线的透过率。 03 应用高分辩多CMOS读出系统,更低的暗电流、更好的检出限、更高的稳定性、更强的灵敏度。 04 全数字化的智能复合光源DDD技术,充分满足不同基体、不同样品以及不同元素的激发要求。 05 FPGA数据采集及以太网网络数据传输技术,保证数据一致性及数据传输速率。 06 内置工厂校正曲线及曲线扩展技术,满足不同材料的技术要求。 07互联网网络技术及数据云储存。 08 操作简单、维护成本低、质量可靠。 09 具竟争力的价格。 精密设计的氩气吹扫系统 光室密封性强,可保持内部氩气长期纯净。 光室空间优化设计,降低氩气消耗,有效节约产生成本。 低氩气吹扫系统,确保光室UV波段测量环境。 光室充氩免除复杂的真空系统。 高分辩率CMOS检测器实现全谱分析 谱线覆盖了所有的重要元素,满足所有基体和材料的分析。 高灵敏的紫外区检测,对N的分析检测更准确。 可有效选择元素灵敏线,保证分析的准确度。 多峰拟合技术,有效消除谱线干扰,实现精准测量